微导纳米发布iMagtron系列磁控溅射系统和iTomic MeT系列原子层沉积系统Ru工艺
2026年10月14日 16:08
来源: 科创板日报
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  《科创板日报》14日讯,在今日的2026湾芯展开幕式上,微导纳米发布新产品及新工艺。其中,新产品为iMagtron系列磁控溅射系统设备,具备包括整体尺寸更紧凑;采用模块化设计,同一系统满足不同应用和技术节点Cu1-Cu4不同工艺需求;整体工艺上针对各个应用痛点,如Ta/TaN优化设计,PK LifeTime优化50%以上等优点。其新工艺为iTomic MeT系列原子层沉积系统Ru工艺。微导纳米通过原子级的形核调控技术,在多种衬底上实现<5nm连续Ru薄膜成膜,关键指标达到量产参考水平。

(文章来源:科创板日报)

文章来源:科创板日报 责任编辑:98
原标题:微导纳米发布iMagtron系列磁控溅射系统和iTomic MeT系列原子层沉积系统Ru工艺
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