拓荆科技吕光泉:摩尔定律和韬定律协同发展 突破系统性能边界
2026年09月18日 14:39
来源: 科创板日报
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  在今日举行的2026半导体生态发展大会暨上海院士专家创新大会上,拓荆科技董事长吕光泉表示,摩尔定律和韬定律协同发展,突破系统性能边界。当前先进制程与先进封装呈同步推进态势,摩尔定律仍沿着FinFET、GAA到CFET的技术路径持续推进。为解决这一路径的成本问题,先进封装在不同阶段、不同功能芯片上被导入,可大幅提升芯片间通讯带宽并优化功耗。 (科创板日报记者陈俊清)

(文章来源:科创板日报)

文章来源:科创板日报 责任编辑:70
原标题:拓荆科技吕光泉:摩尔定律和韬定律协同发展 突破系统性能边界
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