光刻机DUV和EUV区别在哪？一图梳理相关概念
今天光刻机相关概念股逆势上涨，波长光电20厘米涨停，张江高科、奥普光电10厘米涨停；而海外光刻机概念股则遭遇大跌，美股阿斯麦跌5.8%，日股佳能跌5.73%、尼康跌11.03%。
依据光源波长差异，光刻机可划分为紫外(UV)、深紫外(DUV)和极紫外(EUV)三大类，分别对应不同纳米制程芯片的制造需求。
头豹研究院指出，EUV的光源波长为13.5nm，可以制造7nm及以下制程的芯片；最先进DUV的光源波长为193nm，较长的波长使DUV无法实现更高的分辨率，因此只能用于制造7nm及以上制程的芯片。
根据华创证券研报，光刻机2024年阿斯麦、佳能、尼康市占率分别为61.2%、34.1%、4.7%。佳能与尼康聚焦KrF与i-line等成熟机型，而阿斯麦在ArFi浸没式与EUV领域高度垄断。
（文章来源：东方财富研究中心）
