拓荆科技拟购买半导体公司 股票停牌!股价已涨近5倍!
2026年06月28日 08:05
来源: 证券时报·e公司
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  拓荆科技(688072)6月26日晚公告,公司正在筹划以发行股份及支付现金的方式购买无锡尚积半导体科技股份有限公司(以下简称“无锡尚积”或“标的公司”)的控股权并募集配套资金。根据上交所的相关规定,经公司申请,公司股票自6月29日(星期一)开市起开始停牌,预计停牌时间不超过10个交易日。

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  从二级市场来看,拓荆科技股价扶摇直上,过去一年多时间里涨近5倍。

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  此次拓荆科技拟收购对象无锡尚积,主营业务为半导体薄膜沉积与刻蚀设备的研发、生产和销售,主要产品包括PVD(物理气相沉积)、ETCH(刻蚀)、CVD(化学气相沉积)等核心半导体设备。

  拓荆科技表示,公司与标的公司股东王世宽、夏小军、上海泰纳微企业管理有限公司、无锡芯聚管理咨询合伙企业(有限合伙)、无锡宽行企业管理有限公司、无锡芯智管理咨询合伙企业(有限合伙)签署了《股权收购意向协议》,约定公司拟通过发行股份及支付现金的方式购买标的公司控股权,最终价格将以公司聘请的符合《中华人民共和国证券法》规定的评估机构出具的评估报告结果为定价依据,由交易各方协商确定。上述协议为交易各方就本次交易达成的初步意向,本次交易的具体方案将由交易各方另行签署正式协议予以约定。

  拓荆科技主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务。目前已形成PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD、FlowableCVD等薄膜沉积设备产品,以及晶圆对晶圆混合键合、晶圆对晶圆熔融键合、芯片对晶圆混合键合等三维集成设备产品,已广泛应用于逻辑芯片、存储芯片、功率器件、Micro-OLED、硅光技术、图像传感器(CIS)等领域。

  依托在PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD、FlowableCVD等薄膜沉积设备及三维集成设备领域的技术突破与规模化量产,拓荆科技在先进制程领域核心竞争力显著提升,业务规模实现大幅增长。2025年度,公司实现营业收入65.19亿元,同比增长58.87%;实现归属于上市公司股东的净利润9.27亿元,同比增长34.67%;实现归属于上市公司股东的扣除非经常性损益的净利润7.23亿元,同比增长103.05%。

  拓荆科技2025年度向特定对象发行A股股票刚刚完成。截至2026年6月17日10时,拓荆科技已向特定对象发行798.6万股,发行价格576.01元/股,募集资金总额为46亿元,扣除不含税的发行费用4174.74万元后,公司实际募集资金净额为45.58亿元,其中计入股本798.6万元,计入资本公积45.5亿元。

  据悉,拓荆科技本次募资拟投向高端半导体设备产业化基地建设项目、前沿技术研发中心建设项目及补充流动资金。

  拓荆科技表示,本次发行股份募集资金投资项目围绕公司主营业务开展,系现有业务的扩展和补充,是公司完善产业布局的重要举措。项目实施完成后,公司的主营业务保持不变,公司业务规模和收入规模都将有所扩大。

(文章来源:证券时报·e公司)

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原标题:688072,拟购买半导体公司,股票停牌!股价已涨近5倍!
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