6月27日，拓荆科技（688072）发布公告称，公司正在筹划以发行股份及支付现金的方式购买无锡尚积的控股权并募集配套资金。经公司申请，公司股票自2026年6月29日（星期一）开市起停牌，预计停牌时间不超过10个交易日。

　　拓荆科技在公告中提示称，本次交易尚处于筹划阶段，截至本公告披露日，本次交易的审计、评估工作尚未完成，标的资产估值及定价尚未确定。本次交易不构成重大资产重组，不会导致公司无实际控制人的情况发生变化，不构成重组上市。

　　据悉，无锡尚积成立于2021年6月，企业注册资本2166.45万元，主营业务为半导体薄膜沉积与刻蚀设备的研发、生产和销售，主要产品包括PVD（物理气相沉积）、ETCH（刻蚀）、CVD（化学气相沉积）等核心半导体设备。

　　目前，拓荆科技已与无锡尚积股东王世宽、夏小军、上海泰纳微企业管理有限公司、无锡芯聚管理咨询合伙企业（有限合伙）、无锡宽行企业管理有限公司、无锡芯智管理咨询合伙企业（有限合伙）签署了《股权收购意向协议》，约定公司拟通过发行股份及支付现金的方式购买无锡尚积控股权，最终价格将以评估机构出具的评估报告结果为定价依据，由交易各方协商确定。

　　据公开资料，拓荆科技成立于2010年，深耕前道薄膜沉积设备领域，是国内集成电路领域硬掩膜工艺覆盖最全面的设备厂商，公司的主要产品包括PECVD系列产品、ALD系列产品、SACVD系列产品、HDPCVD系列产品、FlowableCVD系列产品、三维集成领域系列产品。

　　拓荆科技目前的核心优势在于PECVD（等离子体增强化学气相沉积）设备，但在PVD金属化和等关键设备领域布局相对欠缺，无锡尚积恰好能够补足这些短板。

　　二级市场或已反映部分预期。截至6月26日收盘，股价报832元/股，年内该公司已累计上涨超150%。相比去年6月低点，累计涨幅超过555%，总市值已升至2352亿元。

　　此前， 6月22日，拓荆科技完成46亿元定增募资，其中20亿元用于前沿技术研发中心建设项目，基于公司前沿技术战略布局，拟重点围绕 PECVD、ALD、沟槽填充 CVD 等工艺设备领域深耕，开展多项先进薄膜沉积工艺和设备的研发，并逐步突破其中的前沿核心技术。

　　来源：读创财经

（文章来源：深圳商报·读创）