国林科技:臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积等工艺制程
2025年05月22日 16:36
来源: 证券日报
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  证券日报网讯国林科技5月22日在互动平台回答投资者提问时表示,臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程。子公司国林半导体现有产品包括:半导体级超纯臭氧气体发生器、臭氧气体输送系统、半导体级高浓度臭氧水系统、DI-NH3氨水输送系统、臭氧水杀菌系统、臭氧气体尾气分解器、臭氧水分解器、臭氧气体浓度检测仪、臭氧水溶浓度检测仪、移动式高浓度臭氧水车产品。

(文章来源:证券日报)

文章来源:证券日报 责任编辑:6
原标题:国林科技:臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积等工艺制程
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