全球晶圆厂设备开支保持强劲 该细分领域需求持续提升
由先进半导体产业集群主办的2025中国国际半导体先进技术与应用大会，将于4月22日在苏州举办。
兴业证券分析指出，全球晶圆厂设备开支保持强劲，光刻机需求持续提升。ASML预计到2030年，全球半导体销售额将超过1万亿美元，2025-2030年CAGR达9%；2025年-2027年，全球300mm晶圆厂设备支出预计分别1232亿美元/1362亿美元/1408亿美元，同比分别增长24%/11%/3%，光刻机是半导体设备中市场占比最大品类，市场占比达24%。伴随先进逻辑和存储芯片制程持续迭代，EUV光刻机占比持续提升。光刻机作为芯片制造光刻环节的核心设备，目前全球前道光刻机被ASML、尼康、佳能垄断，实现光刻机的国产化势在必行，具有重大战略意义。
据财联社主题库显示，相关上市公司中：
茂莱光学为光刻机光学系统提供用于匀光、中继照明模块的光学器件、投影物镜，以及用于工件台位移测量系统的棱镜组件，是光刻机实现光线均匀性与曝光成像的核心模块。
张江高科于2024年10月，通过子公司上海张江浩成创业投资有限公司投资了上海微电子公司22,345万元人民币，持有上海微电子公司10.779%的股权。
（文章来源：财联社）
