3月27日，光刻机板块表现活跃，新莱应材（300260.SZ）午后开盘快速“20cm”涨停，国风新材（000859.SZ）、凯美特气（002549.SZ）、西陇科学（002584.SZ）、海立股份（600619.SH）、冠石科技（605588.SH）、兴业股份（603928.SH）、江化微（603078.SH）、常青科技（603125.SH）等“10cm”涨停，佳先股份（430489.BJ）、芯碁微装（688630.SH）等公司涨幅居前。
消息面上，3月26日，SEMICON China 2025在上海开幕。深圳新凯来工业机器有限公司（下称“新凯来”）首次公开亮相，并发布多款产品，覆盖半导体制造全流程，包括EPI“峨眉山”产品、ETCH“武夷山”产品、CVD“长白山”产品、PVD“普陀山”产品、ALD“阿里山”产品等。
天眼查显示，新凯来成立于2022年6月7日，其背后股东分别为新凯来技术有限公司和深圳市均隆高新产业创业投资中心（有限合伙）。
图源：天眼查
就新凯来的产品及发展情况，时代财经3月27日向新凯来方面发去了采访提纲,但截至发稿未获有效回复。
据半导体产业纵横报道，新凯来自成立之初就瞄准国内半导体制造企业的高端装备需求。其从2022年开始快速构建研发团队、组织行业资源，从客户需求到系统设计，从零部件开发到整机集成，3年潜心研发。3月26日，新凯来发布的13类产品涵盖了光学检测、光学量测、PX 量测、功率检测等领域。
新凯来量检测装备产品线总裁郦舟剑在接受媒体采访时提到，“当前首要解决先进制程问题，国外工艺节点已经走的更领先，我们也会朝这个方向持续地努力，这需要时间，但我们有信心。”
国泰君安分析称，美系厂商主导的刻蚀、沉积、量检测、离子注入等主要半导体设备进口或进一步受阻，倒逼国产设备加速发展。
国信证券研究显示，光刻机作为所有半导体制造设备中难度最高、最难突破的一环，占晶圆生产设备总市场的24%。从UV到EUV，光刻机经历了五代发展和进化，每次光源的改进都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。根据前瞻研究院数据，光刻机由光源、曝光和双工作台三大核心系统组成，一台EUV光刻机内含有超10万个精密零部件，全球供应商超过5000家。其中光学系统是最重要的子系统之一，约占整体光刻机成本的30%。
从3月27日光刻机板块涨停个股来看，据Wind数据，新莱应材是超高洁净设备关键部件的专业供应商，产品广泛应用于食品饮料、生物医药及泛半导体行业；国风新材深度聚焦高分子功能膜材料、光电新材料、聚酰亚胺材料、绿色环保木塑新材料、新能源汽车轻量化材料五大产业；冠石科技主营业务为半导体显示器件及特种胶粘材料的研发、生产和销售；江化微主营超净高纯湿电子化学品及光刻胶配套湿电子化学品。
这其中，开源证券研报指出，新莱应材产品满足7nm先进制程需求，批量交付AMAT、LAM、北方华创等全球半导体龙头。公司产品成熟可批量出货，国内进展顺利，后续订单有望持续落地。
国风新材在2024年年报中透露，公司聚酰亚胺薄膜材料可广泛应用于柔性显示、集成电路、芯片柔性封装、5G通信、新能源汽车、电气电子、航空航天等领域，目前已批量生产的聚酰亚胺薄膜主要产品为FCCL用聚酰亚胺黄色基膜、遮蔽用聚酰亚胺黑膜、聚酰亚胺碳基膜和芯片封装用聚酰亚胺薄膜。
冠石科技则在2024年半年报中表示，报告期内完成了光掩膜版项目，预计建成投产后，公司将成为国内技术能力先进的独立光掩膜版生产企业，提高我国半导体光掩膜产业的安全和可控性。
对于江化微，华鑫证券研报表示，公司在湿电子化学品领域具有较强的市场竞争力，尤其是在高端半导体和光刻胶配套试剂业务方面表现突出，并已实现G5等级产品的量产，在华虹集团、长鑫存储等高端半导体客户中形成销售，进一步巩固了在行业中的领先地位。
对于国内光刻机产业的发展，光大证券研报表示，目前国内的IC前道光刻机市场主要被ASML、Nikon和Canon瓜分。ASML为国内光刻机最大的进口来源。上海微电子是国内光刻机头部厂商，其自主研发的600系列光刻机可批量生产90nm工艺的芯片。但是在技术层面，上海微电子的IC前道光刻机与国际先进水平差距仍较大，国产光刻机仍任重道远。
截至3月27日收盘，万得光刻机概念指数上涨4.99%至3362.53点。
（文章来源：时代财经）
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