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半导体封测厂商日月光3月20日宣布VIPack平台先进互连技术的最新进展,透过微凸块(microbump)技术将芯片与晶圆互连间距的制程能力从40um提升到20um,可以满足复杂芯片设计以及系统架构的要求,降低整体制造成本并加快上市时间。芯片级互连技术的扩展不仅针对人工智能等高阶应用,也扩及手机应用处理器、微控制器等其他关键产品。
(文章来源:界面新闻)
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